近日，由湖北科投旗下光谷产业园公司代建的光谷文化中心项目，凭借卓越的设计与创新理念，在美国 IDA 国际设计大奖中脱颖而出，荣获荣誉提名奖。获此殊荣，是对光谷文化中心项目设计的高度认可，充分彰显了其在国际设计领域的突出影响力。
美国 IDA 国际设计大奖，是国际上极具影响力与权威性的奖项，一直致力于表彰全球富有远见的设计作品。其以关注反传统设计和杰出设计为使命，以严格的评审标准和专业的评判视角著称，在全球设计领域备受瞩目。
光谷文化中心项目位于东湖高新区高新大道与光谷三路交汇处，总建筑面积约 26 万㎡。项目以“四叶草”为设计灵感，将科技与艺术完美融合，寓意光谷的蓬勃发展。项目各楼栋通过架空平台相连，利用场地高差设置共享层，并与武汉轨道交通 11 号线进行 TOD 接驳，充分体现了绿色环保、智慧高效的设计理念，打造出便捷共融的文化空间。
在建设过程中，项目团队不断创新突破，将前沿理念与先进技术深度结合，此前已在多项国内外大赛中斩获佳绩。此次获美国 IDA 国际设计大奖荣誉提名奖，进一步证明了其设计的创新性与前瞻性。
每一次获奖都是新的起点。光谷产业园公司将以此为动力，持续秉持创新精神，深化设计与技术融合，努力将该项目打造成为具有区域影响力的文化地标。未来，公司也将继续以推动东湖高新区文化发展为己任，为城市奉献更多兼具创新与品质的建筑佳作，助力文化与经济的繁荣发展。
